进入了六月以后,成永兴的陪聊业务,愈发的繁忙。
由于条件的限制,再加上距离的遥远,他不得不通过电话,一点一滴的跟踪远方的进展。
经历了s的洗礼,成永兴对于半导体设备的使用,并不陌生了。
但是他现在又来到了一个全新的挑战面前。
1989年到1990年这个节点,对于一名程序员来说,差不多是最差的年代。
c软件刚刚起步,网络时代还没有到来。国内的软件市场,还处于一种发烧友的环境。市场就根本不要提了,学校计算机里用的软件,都是免费的。
但是对于蓝光ed来说,这就是最好的年代。
蓝光ed发明专利的前置条件,在89年先后都已经出现。
1989年,日本ntt公司的松冈隆志发明了以用氮气作为载气的方法,获得gan材料生长的标准工艺。
1985年,赤崎师生,发明了“两步法”生长技术使得gan的晶体质量显著改善,然后又在1989实现了世界上第一支gan基n结ed。
可以说,在过去的几年里,蓝光ed技术,一直在不停的进步,而且走到了一个关键的时间点上。
但从90年到93年,蓝光ed大规模量产之前,整整三年,整个世界,完全成了中村一个人的舞台。
在这个阶段,其它人虽然也有所收获。但是这些收获,通通被证明,走在了错误的道路上
成永兴这段时间,通过电话与传真,遥控着远方的盟军力量,不停地攻打两个关键关卡。
这些关卡,在整个蓝光ed的八卦史里,也都非常有名。
第一关,就是ocvd的改造设计。
在加热器内置后,整个反应室的设计,出现了翻天覆地的变化,其中最重要的就是,主要的设备材质从石英变成了金属。
这个变化是决定性的
可以说,中村完全是设计了一种不同类型的ocvd,除了名字相同,原理相同以外,两者之间,再没有什么是相同的。
这个改造,是所有事情的。
如果不是中村这个怪胎,也许蓝光ed的出现,还要再等待三十年
这件事情的难度,我们可以做个比喻。
有位学习集成电路设计的老兄,不满意现有光刻机的精度,或者易用性,于是自己动手设计和制造了一种新类型的光刻机
这种光刻机不但能用而且好用,各种技术指标,全面爆棚
又或者是一名医生,不满意现在的ct扫描仪,自己动手做出了核磁扫描仪
通过这两个例子,大家就能理解,中村的成就是多么的离谱。
术业有专攻。
随着工业和科学技术的发展,学科的种类也是越分越细。这种细分的结果,使人的知识面反而越来越窄,每个人都成为了大机器上的一个螺丝钉。
人一旦离开了现代社会这个大机器,被饿死在野外,是大概率事件。
被现代化教育体系培养出来的精英,仪器的使用者和仪器的制造者,是两种完全不同领域的人。
正是这种跨专业,跨领域,仪器制造厂对使用者的需求和困扰,并不是那么敏感和理解。这也是ve,甚至ocvd早就诞生,但只有到了今天,才被中村改造。
光刻机的厂家,肯定很烦芯片设计人员跑过来指手画脚,告诉他们如何设计仪器。
在科仪,如果不是他们走投无路,会甘心情愿的听成永兴瞎指挥
把石英改成金属你那不是疯了吧
这一关,中村靠的是天赋,成永兴靠的是外挂和金手指。
过了第一关,就是第二关。
这个第二关,也跟设备结构有关系。
这就是被后世沿用三十年之久的“ofo“双吹法进气模式。
gan材料的生长温度比传统半导体要高很多,一般在1000度以上。
在高温下,衬底表面的气体会自发向上扩散,造成外延表面的氮分压不够,gan容易分解。
中村发明了一种双束流反应室结构,即一路为水平气流携带化学反应的前驱物进入反应室,另外一路为垂直的气流
第两百四十二章:蓝光
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