正所谓时势造英雄，当时已在台积电担任光刻技术研发负责人的林本坚，早已注意到这个瓶颈。

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林本坚，男，1942年出生在越南，中国台湾人，祖籍广东潮汕，美国国家工程院院士，台湾“中央研究院”院士，台湾清华大学、台湾交通大学、台湾大学特聘讲座教授，清大—台积电联合研发中心主任。

林本坚1963年获得台湾大学电机工程学系学士；1970年获得美国俄亥俄州立大学电机工程学系博士；2000年—2015年在台湾积体电路制造股份有限公司任资深处长、杰出科技院士和副总经理；2008年当选美国国家工程学院院士；2014年当选台湾“中央研究院”院士；2015年底从台积电退休。

林本坚专注于半导体制程中的微影技术的研发，带领团队创造出许多领先全球的技术，包括1.25微米、1微米、0.75微米、0.5微米、0.35微米的微影技术。

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他换个角度思考，发现可以在原有193纳米干式光刻镜头上发展浸润式光刻，改用水代替空气作为介质，注入为浸润式设计的镜头与晶圆上的光阻之间，把进入光阻的光波长缩到134纳米。

（原理很简单，就是通过水的折射改变光的波长。）

因而提高44%解析度的影像就可以转接到晶圆的光阻上，让刻出的电路更精细。就是这个思考让林本坚相信，改变原本的193纳米干式曝光为浸润式，就可以让工艺前进两代半甚至三代。

同年，林本坚受邀到美国参加一场以157纳米波长为主题的研讨会，本来大会邀请林本坚是去讨论157纳米工艺的。

结果林本坚直接抛出了“运用水作为193纳米浸润式的介质，可以超过干式的157纳米”的论点，整个会场就像被扔下了一颗炸弹，所有人的思路都被打开了。

大家直接抛弃157纳米议题开始讨论193纳米浸润式。

不过，台下的芯片业者也都提出了自己的疑问，有人提到水会不会产生气泡？水会不会污染设备？是不是要做防水？怎麽做？水遇热会膨胀，折射率会改变，怎麽解决？

既然是林本坚提出来的，那解决问题的重任自然也就落到他身上。

但解决了问题还不够，“最重要的是做量产机器的厂商愿意投入才行啊。

配套的厂商总共在157纳米光刻机研发上投入了不下十亿美元，更有厂商建好了157纳米镜头材料的工厂。”

林本坚的理论若被采用，等于宣告其他的人前功尽弃。

台积电高层蒋尚义曾回忆，“（当年）确实有大公司的高层领导表达严重关切，希望我能管管他（林本坚），不要搅局。”

林本坚提出的浸润式光刻技术在台积电高层张忠谋、蒋尚义的大力支持下，开始放手一博。

一批曾和林本坚一起奋斗的台积电领导记得，起初反对方常在国际研讨会上与台积电针锋相对，质疑以水做为介质易产生污染，且水中的气泡会影响曝光等等。

对外界疑虑有备而来的林本坚，决定更彻底解决，便带着团队做该做的实验，写该写的论文。他自己也完成三篇论文，投稿到国际期刊，连还未被提出的质疑也一并设想、响应。

除了技术的理论，林本坚的沟通也做得彻底，当时他跑遍美国、RB、荷兰与德国等地，一一拜会业界，劝说他们继续投入157纳米是浪费钱浪费时间，促使艾斯摩尔与尼康等国际大厂转向。

“原本一个美国大厂的代表说他们绝不用这科技，结果一年后，他们也用了。”

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而这样的在前期的大量技术投入和之后选择方向的分歧，就导致了光刻机领域王座的交替。

尼康选择了在157n一条道走到黑，却没意识到背后有位虎视眈眈的搅局者——阿斯麦。

毕竟这只是理想情况，在精密的机器中加水构建浸润环境，既要考虑实际性能，又要操心污染。如果为了这一条短期替代方案，耽误了光源研究，吃力不讨好只是其次，被对手反超可就不好看了。